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課程管理

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課程資料
課程編號P107129
課程分類IC製造與設備
課程名稱(中)【學生優惠-工四館101室】先進奈米級電晶體技術（含UTB、FinFET與奈米線元件）
授課教師林鴻志
課程程度進階
先修科目或先備能力半導體元件物理
課程大綱

1. Planer CMOS: Scaling Trends and Challenges
2. Advanced Logic Device Technology
 - Ultra-thin body devices
 - Double-gated and tri-gated devices
 - Gate-all-around structure
 - Independent multiple-gated devices
 - Ultimate CMOS

課程目的

協助學員瞭解傳統平面CMOS元件發展的瓶頸與解決方案，3D半導體元件結構發展趨勢，3D半導體元件技術在邏輯與記憶體晶片之發展現況，與新式節能元件之原理與發展。

 

目前主流的平面CMOS元件結構預測在幾年內就將難以再微縮下去，屆時將會引用新式立體3D的結構(如FinFET)來延續邏輯電路的製作。另一方面，記憶體晶片早以使用立體3D的電晶體結構來進行奈米技術的量產。當代生產線與研發工程人員須對這些有別於傳統的各種新式結構特徵及其優缺點，以及相關的製程加工技術須有正確的認知，才能面對與應付將來新一代技術的挑戰與開發。本課程將可帶給IC產業相關工程與研發人員完整與心有價值的資訊，為下一代的量產技術作準備。
開課日期2018-08-02
結束日期2018-08-16
出席時數每週二、四
上課時段Pm18:30~21:30
課程總時數15小時
上課地點交通大學工程四館101教室
實作地點無實作
下載報名表 P107129
若無法線上報名, 請下載報名表寄至nctuee@nctu.edu.tw
學費
  1. 學員自付學費【由科管局補助80%】
    ．4,500元　備註:一般價
    ．4,000元　備註:特約廠商、3人（含）以上團報價
    ．3,500元　備註:5人（含）以上團報優惠價
    ．2,000元　備註:學生優惠價（需出示學生證）
線上報名開始時間2018-03-20
線上報名結束時間2018-08-02
線上報名人數限制不限制
建立者林明霓
最後修改時間2018-07-20 17:20:25
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