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課程管理

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課程資料
課程編號P102218
課程分類IC製造與設備
課程名稱(中)《延期至9/16一開課》高密度電漿製程(台灣科學工業園區科學工業同業公會)
授課教師林鴻志
課程程度
先修科目或先備能力
課程大綱1. Plasma Fundamentals
2. Reactor Technology
   (1) Diode
   (2) Triode
   (3) MERIE
   (4) ICP
   (5) ECR
   (6) Helicon Wave Plasma
   (7) Surface Wave Plasma
3. Applications
   (1) Etch
   (2) CVD
   (3) Plasma Doping
   (4) Surface Treatment

建議先備知識:半導體製程技術
課程目的協助學員瞭解電漿製程技術的基本原理與應用,各類型電漿反應腔之特色與設計重點,以及相關製程應用。
開課日期2013-09-16
結束日期2013-10-01
出席時數每週一9/16、9/23、10/1(二)
上課時段pm18:30-pm21:30
課程總時數9小時
上課地點台灣科學工業園區科學工業同業公會202教室 (地址:新竹科學園區展業一路2號)
實作地點
下載報名表 P102218 高密度電漿製程 MS Word
若無法線上報名, 請下載報名表寄至nctuee@nctu.edu.tw
學費
  1. 免費
線上報名開始時間2013-05-09
線上報名結束時間2013-10-16
線上報名人數限制60人
建立者陳敏玉
最後修改時間2013-09-24 15:38:27
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