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課程管理

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課程資料
課程編號P101223
課程分類IC製造與設備
課程名稱(中)高密度電漿製程
授課教師林鴻志
課程程度
先修科目或先備能力
課程大綱
1. Plasma Fundamentals
2. Reactor Technology
  (1) Diode
  (2) Triode
  (3) MERIE
  (4) ICP
  (5) ECR
  (6) Helicon Wave Plasma
  (7) Surface Wave Plasma
3 Applications
  (1) Etch
  (2) CVD
  (3) Plasma Doping
  (4) Surface Treatment
課程目的協助學員瞭解電漿製程技術的基本原理與應用,各類型電漿反應腔之特色與設計重點,以及相關製程應用
開課日期2012-09-03
結束日期2012-09-10
出席時數每週一、三
上課時段Pm18:30-Pm21:30
課程總時數9小時
上課地點科學園區同業公會202教室(園區展業一路2號)
實作地點
下載報名表 p101223簡章 MS Word
若無法線上報名, 請下載報名表寄至nctuee@nctu.edu.tw
學費
  1. 學費
    .1,500元 備註:一般價
    .1,000元 備註:特約廠商、3人(含)以上團報,請至本網站首頁查詢〔特約商名錄〕或在〔加入特約商〕處加入!另針對〔3人(含)以上團體報名〕者,請在下方欄位〔收據抬頭〕處括號註明所有團報者之姓名。
    .600元 備註:5人以上團報
線上報名開始時間2012-06-07
線上報名結束時間2012-09-03
線上報名人數限制不限制
建立者
最後修改時間2012-09-04 12:09:18
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