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課程管理

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課程資料
課程編號E101207
課程分類IC製造與設備
課程名稱(中)先進奈米級電晶體技術(工程四館2樓201教室)
授課教師林鴻志
課程程度
先修科目或先備能力
課程大綱

1.    Planer CMOS: Scaling Trends and Challenges

2.    Advanced Logic Device Technology

   - Ultra-thin body devices
   - Double-gated and tri-gated devices
   - Gate-all-around structure
   - Independent multiple-gated devices
   - Ultimate CMOS

3.    Advanced Memory Device Technology

   - SRAM and DRAM
   - Non-volatile memory
   - 3D device integration
課程目的協助學員瞭解傳統平面CMOS元件發展的瓶頸與解決方案,3D半導體元件結構發展趨勢,3D半導體元件技術在邏輯與記憶體晶片之發展現況,與新式節能元件之原理與發展。
開課日期2012-07-23
結束日期2012-08-20
出席時數每週一、三(8/8父親節停課一次、8/1颱風停課一次)
上課時段pm18:30-pm21:30
課程總時數18
上課地點交通大學工程四館2樓201教室
實作地點
下載報名表 E101207先進奈米級電晶體技術簡章 MS Word
若無法線上報名, 請下載報名表寄至nctuee@nctu.edu.tw
學費
  1. 學費
    .5,000元 備註:費用總計 10,000元(工業局補助 5,000元,學員自付 5,000元)
線上報名開始時間2012-03-23
線上報名結束時間2012-07-23
線上報名人數限制不限制
建立者陳敏玉
最後修改時間2012-08-20 10:41:58
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